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日本日立超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus8100概述
“Regulus系列"是日立高新技術的FE-SEM的全新品牌，包括作為SU8010的后續(xù)機型開發(fā)的 “Regulus8100" 以及SU8200系列的升級 “Regulus8220" “Regulus8230" “Regulus8240″，共4個機型，均實現了分辨率和操作性的強化。
掃描電子顯微鏡(SEM)被廣泛應用于納米技術，半導體?電子行業(yè)，生命科學，材料科學等領域的材料結構觀察。近年來，新一代的電子器件應用中受到廣泛期待的新型碳材料，高分子材料，復合材料等的研究作為*科學技術的中堅技術，在全SHI界范圍內受到熱捧。掃描電子顯微鏡廣泛用于這些材料的觀察?評價，但僅僅具有超高分辨率還遠遠不夠。還要求能在低加速電壓下對表面細微結構的觀察和高靈敏度的元素分析。除此之外，在長期的研究過程中還追求電鏡的性能的持續(xù)穩(wěn)定和信賴性。
本次發(fā)布的新品牌 “Regulus系列" 電子光學系統(tǒng)進行了*化處理，使得著陸電壓在1kV時分辨率較前代機型提高了約20%。"Regulus8220/8230/8240″達到0.9nm，"Regulus8100″為1.1 nm的分辨率。另外，樶適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節(jié)放大，并獲得高質量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了200萬倍。
除此之外，為了能更好的應對不同樣品的測試和保持并發(fā)揮出高性能，還對用戶輔助工能進行了強化，如信號檢測系統(tǒng)的操作輔助功能，維護輔助功能等。
日本日立超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus8100特點
★ 搭載了色差極小的適合低加速電壓高分辨率觀察的冷場電子槍
★ 跟前代機型相比分辨率大約提高了20%(Regulus8220/8230/8240：0.9 nm/1 kV，Regulus8100s：1.1 nm/1 kV)
★ 最大倍率從原來的100萬倍提高到200萬倍*1
★ 用戶輔助功能，幫助用戶把儀器的高性能*發(fā)揮出來
極低著陸電壓下高分辨觀察
樣品：金顆粒
著陸電壓：10 V
超高分辨觀察
樣品：Pt催化劑
加速電壓：30 kV
低加速電壓下高分辨EDX分析
樣品：Sn球
著陸電壓：1.5 kV
*2 僅限Regulus8240/8230/8220
